
工藝名稱 | 用途 | 溶液組成及操作條件 |
裝飾鍍金 DEG 1N-14 | 標準1N-14顏色電鍍。 | DEG 1N-14開缸劑 60%(v/v) Au 2g/L |
裝飾鍍金 DEG 2N-18 | 標準2N-18顏色電鍍。 | DEG 2N-18開缸劑 60%(v/v) Au 2g/L |
裝飾鍍金 DEG 301 | 酸性預(yù)鍍金,可減少對后續(xù)厚金層污染。 | DEG 301開缸劑 60%(v/v) Au 1g/L PH: 3.5-4.0 |
裝飾鍍金 DEG 318 | 中性鍍金液。鍍層顏色為24k純金色,色澤均勻,上色速度快,雜質(zhì)容忍度較大,可在較低金濃度下操作。 | DEG 318開缸劑 60%(v/v) Au 1g/L PH: 7.0-7.5 |
耐磨鍍金 AEG 100 | 酸性金鈷合金,可得到高硬度鍍金層,耐磨??勺鳛殡娮釉骷癙CB金手指鍍金。 | AEG 100開缸劑 60%(v/v) Au 4g/L PH: 3.5-4.7 |
耐磨鍍金 AEG 200 | 酸性金鈷合金,鍍層硬度高,顏色美觀,兼顧功能與裝飾性。 | AEG 200開缸劑 60%(v/v) Au 2g/L |
高速鍍金 HSG 252 | 適用于連續(xù)鍍或選擇性電鍍的調(diào)整鍍金工藝,電流密度高沉積速度快,鍍層硬度高、焊接性能良好。 | HSG 252開缸劑 60%(v/v) Au 4-16g/L 陰極電流密度 1-100 A/d㎡ |
高純鍍金 HPG 400 | 適用于電子工業(yè)的接插件、元器件的高純可焊金。 | HPG 400開缸劑 50%(v/v) Au 8g/L PH: 5.5-6.5 |
高純鍍金 HPG 405 | 適用于半導(dǎo)體工業(yè)中引線、連接器、芯片基座的高純鍍金,焊接性能好,耐腐能力高。 | HPG 405開缸劑 60%(v/v) Au 12-16g/L PH: 6-8 |
高純鍍金 HPG 408 | 適用于有高可靠性要求的芯片、基座等的鍍金要求,外觀呈檸檬黃色,有高的耐腐蝕能力及極好的焊接性能。 | HPG 408開缸劑 80%(v/v) Au 10-16g/L PH: 5.8-7 |