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貴金屬電鍍工藝
2017/7/20 16:49:45


工藝名稱

用途

溶液組成及操作條件

裝飾鍍金 DEG 1N-14

標準1N-14顏色電鍍。

DEG 1N-14開缸劑  60%(v/v)

Au                2g/L

裝飾鍍金 DEG 2N-18

標準2N-18顏色電鍍。

DEG 2N-18開缸劑  60%(v/v)

Au                2g/L

裝飾鍍金 DEG 301

酸性預(yù)鍍金,可減少對后續(xù)厚金層污染。

DEG 301開缸劑    60%(v/v)

Au                1g/L

PH:              3.5-4.0

裝飾鍍金 DEG 318

中性鍍金液。鍍層顏色為24k純金色,色澤均勻,上色速度快,雜質(zhì)容忍度較大,可在較低金濃度下操作。

DEG 318開缸劑    60%(v/v)

Au                1g/L

PH:              7.0-7.5

耐磨鍍金 AEG 100

酸性金鈷合金,可得到高硬度鍍金層,耐磨??勺鳛殡娮釉骷癙CB金手指鍍金。

AEG 100開缸劑    60%(v/v)

Au                4g/L

PH:              3.5-4.7

耐磨鍍金 AEG 200

酸性金鈷合金,鍍層硬度高,顏色美觀,兼顧功能與裝飾性。

AEG 200開缸劑    60%(v/v)

Au                2g/L

高速鍍金 HSG 252

適用于連續(xù)鍍或選擇性電鍍的調(diào)整鍍金工藝,電流密度高沉積速度快,鍍層硬度高、焊接性能良好。

HSG 252開缸劑  60%(v/v)

Au              4-16g/L

陰極電流密度  1-100 A/d㎡

高純鍍金 HPG 400

適用于電子工業(yè)的接插件、元器件的高純可焊金。

HPG 400開缸劑   50%(v/v)

Au                8g/L

PH:              5.5-6.5

高純鍍金 HPG 405

適用于半導(dǎo)體工業(yè)中引線、連接器、芯片基座的高純鍍金,焊接性能好,耐腐能力高。

HPG 405開缸劑   60%(v/v)

Au               12-16g/L

PH:              6-8

高純鍍金 HPG 408

適用于有高可靠性要求的芯片、基座等的鍍金要求,外觀呈檸檬黃色,有高的耐腐蝕能力及極好的焊接性能。

HPG 408開缸劑   80%(v/v)

Au               10-16g/L

PH:              5.8-7

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